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USI Hi-Tech Park

Usage mixte · Shenzhen, Chine

USI Hi-Tech Park

Présentation

Renouvellement urbain à usage mixte à Shenzhen : bureaux et laboratoires de R&D pour un fabricant de puces de premier rang, couronnés par une tour de R&D de 200 m.

Un projet de renouvellement urbain à usage mixte créant un ensemble de bureaux performants et de laboratoires de R&D pour un fabricant de puces de premier rang. La tour de R&D de 200 m, associée au bâtiment de dortoirs, dessine sur le site une silhouette urbaine vivante et étagée.

Le rez-de-chaussée est mis en retrait au nord et au sud afin de créer des bandes d'accès public et un réseau de cheminements piétons apaisés. Un terminal de bus et d'autres équipements publics sont intégrés au rez-de-chaussée et au socle, avec des espaces singuliers aux nœuds de circulation, au service des employés et du public.

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